2023年全球半導體設備行業相對萎靡，不過中國半導體設備需求卻異常強勁。據SEMI報告，原始設備制造商的半導體制造設備全球總銷售額在2023年達到1000億美元，同比收縮6.1%。這較2023年年中預測結果下降18.8%有了顯著改善，原因在于中國的設備支出強勁。其預計2023年運往中國的設備出貨金額將超過記錄的300億美元。

2月28日晚間，半導體設備巨頭盛美上海披露2023年財報，該年度營業收入38.88億元，同比增長35.34%；歸母凈利潤9.11億元，同比增長36.21%。對于業績增長，盛美上海表示，受益于國內半導體行業設備需求的不斷增加，銷售訂單持續增長；新客戶拓展、新市場開發等方面均取得一定成效；新產品得到客戶認可，訂單量穩步增長。

當下，在國內消費電子需求回暖、AI帶來的強力算力需求背景下，國內半導體設備廠商或面臨更大機遇。盛美上海持續多元化布局，助力可服務市場規模擴大。而大量持續的研發投入，將為公司多元化布局帶來支撐。

需求持續增長、持續多元化布局、持續研發投入，將推動盛美上海業績持續高增長。

多元化策略顯成效

在很多投資者眼里，盛美上海是國內半導體清洗設備代表廠商。但就目前發展而言，盛美上海的業務范圍絕不局限于半導體清洗設備領域。

實際上，國際半導體設備巨頭，通常也是平臺化發展。比如應用材料，產品涵蓋薄膜沉積、離子注入、刻蝕、化學機械平整等多個領域；泛林公司設備就涵蓋刻蝕設備、薄膜沉積和清洗設備等。

半導體的不同制造環節，在設備工藝上有相同之處，平臺化可以最大化利用技術研發資源和銷售資源。或許，這就是以盛美上海為代表的國產半導體設備廠商，紛紛選擇平臺化的原因。

此外，半導體清洗設備行業市場規模相對狹窄，平臺化可以極大地拓展盛美上海產品的未來市場空間。從半導體設備細分行業清洗設備和電鍍設備的龍頭，走向平臺化的半導體行業巨頭。

2023年，在半導體清洗設備營收穩健增長的背景下，其他半導體設備（電鍍、立式爐管、無應力拋銅等設備）對上市公司業績增長貢獻頗多。根據2023年財報，盛美上海半導體清洗設備營收26.14億元，同比增長25.79%，毛利率48.62%，較上年增加0.34個百分點；其他半導體設備（電鍍、立式爐管、無應力拋銅等設備）營收9.40億元，同比增長81.57%，毛利率59.50%，較上年增加7.43個百分點。

可以看出，盛美上海其他半導體設備營收、毛利率均表現出色。營收、毛利率增長的背后，離不開公司長期的技術積累及針對性產品開發。

目前在國內，邏輯領域較為領先的節點為28納米及以下技術節點；存儲領域，有3D NAND和18/19納米DRAM。

盛美上海不僅自主開發出針對28nm及以下技術節點的IC前道銅互連鍍銅技術Ultra ECP map，還開發出針對三維堆疊電鍍設備，即應用于填充3d硅通孔TSV和2.5D轉接板的三維電鍍設備Ultra ECP 3d。

2023年國內化合物半導體同樣發展迅速。隨著新能源汽車、光伏行業的快速發展，國內對于碳化硅MOSFET的需求劇增。

順應形勢發展，2022年盛美上海Ultra ECP GIII新型化合物半導體電鍍設備在客戶端實現量產，在深孔鍍金工藝中表現優異，臺階覆蓋率在同樣工藝參數條件下優于競爭對手水平；同時公司在2023年開發了去鍍金技術并實現模塊銷售。

持續拓展新品

目前，中國能提供半導體清洗設備的企業較少，主要包括盛美上海、北方華創、芯源微及至純科技。

根據中銀證券專題報告的歷年累計數據統計顯示，盛美上海清洗設備的國內市占率為23%；而Gartner 2022年數據顯示，盛美上海在全球單片清洗設備的市場份額已升至7.2%。除清洗設備外，公司亦積極擴大產品組合，在半導體電鍍設備、半導體拋銅設備、先進封裝濕法設備、立式爐管設備、前道涂膠顯影Track設備、等離子體增強化學氣相沉積PECVD設備等領域擴大布局。

2022年中國半導體專用設備制造五強企業中，盛美上海位列其中。在穩固國內半導體清洗設備龍頭地位的同時，盛美上海也在積極完善產業布局。

半導體七大前道設備主要為光刻設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備、離子注入機、涂膠顯影設備、清洗設備和化學機械拋光（CMP）設備。

目前，盛美上海主要拓展方向為薄膜沉積設備和涂膠顯影設備。據悉，盛美上海在2022年推出多款擁有自主知識產權的新設備、新工藝。其中Ultra PmaxTM等離子體增強化學氣相沉積PECVD設備即將向中國的一家集成電路客戶交付其首臺PECVD設備。該設備及去年發布的前道涂膠顯影設備Ultra Lith，這兩個全新的產品系列將使公司全球可服務市場規模翻倍增加。

事實上，唯有擁有自主的、差異化的技術優勢，不斷探索前沿半導體設備技術，才能在未來的全球市場競爭中取得優勢地位。

盛美上海尤為重視研發投入，2023年研發投入合計6.58億元，同比增長53.95%；研發投入總額占營業收入比例達16.93%，較上年增加2.05個百分點。

在持續的研發投入支持下，盛美上海新品研發方面成果頗豐。據公司發布的《投資者關系活動記錄表》，盛美上海PECVD產品能滿足客戶的全面工藝需求，中端和高端工藝應用是公司的目標，既包括邏輯也包括存儲。

目前，盛美上海研發的涂膠顯影Track設備已經進入客戶端驗證階段。其《投資者關系活動記錄表》披露，Track設備已取得不錯的進展，公司預計2023年度與光刻機對接，設備最大特點在于采用了最新的構架設計，具備高速、高產出的特點。

盛美上海在穩固半導體清洗、其他半導體設備（電鍍、立式爐管、無應力拋銅等設備）的基礎上，乘著國內半導體行業蓬勃發展的東風，積極拓展PECVD和涂膠顯影業務。

隨著國內半導體行業的快速發展，龍頭企業在技術創新和市場拓展上的連續突破，一幅描繪半導體領域高速增長的壯麗畫卷正逐漸展開。盛美上海正通過不斷的差異化技術研發、產能擴張和全球市場布局，推動著整個產業鏈走向進步和成熟。

（本文不構成任何投資建議，信息披露內容以公司公告為準。投資者據此操作，風險自擔。）