每(mei)經(jing)記者(zhe)｜朱成祥    每(mei)經(jing)編輯｜梁(liang)梟    

9月9日，工信微(wei)報微(wei)信公眾號發文(wen)披露《首(shou)臺（套(tao)）重大(da)技術裝備推(tui)廣(guang)應(ying)用指(zhi)導目錄（2024年(nian)版(ban)）》。其中，在(zai)電子(zi)專用設備一欄，氟化氪(ke)光刻(ke)機(ji)(ji)、氟化氬光刻(ke)機(ji)(ji)位(wei)列其中。該資(zi)料顯(xian)示，氟化氬光刻(ke)機(ji)(ji)具有65納米以下的分(fen)辨率和8納米以下的套(tao)刻(ke)精度。

據東興證券研(yan)報(bao)，光刻(ke)(ke)機可分(fen)為(wei)直(zhi)寫光刻(ke)(ke)機與掩(yan)膜光刻(ke)(ke)機，市場主流有i-Iine（汞(gong)線）、KrF（氟(fu)化氪）、ArF（氟(fu)化氬(ya)）、ArFi（浸(jin)潤式氟(fu)化氬(ya)）、EUV（極紫外）五大類。

此次入選推(tui)廣目(mu)錄的氟化氬光(guang)刻機，應屬于干(gan)式ArF光(guang)刻機。在具(ju)體指標上，與ASML旗下TWINSCAN NXT：1470以及TWINSCAN XT：1460K類似(si)。

國產光刻機實力幾何？

據工信微報發文，此次指導(dao)目(mu)錄是(shi)為促進(jin)首臺（套）重大技術裝備創新發展和推廣應用，加強產業、財政、金融、科(ke)技等國(guo)家支持政策的協同。

具體來(lai)看，氟化氪光刻(ke)機晶圓直(zhi)徑(jing)為300mm（12英寸）；照(zhao)明波長為248mm；分辨率≤110nm；套刻(ke)≤25nm。

相比(bi)之下，阿斯麥（ASML）的氟化氪光刻機型(xing)號有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N和(he)TWINSCAN XT：860M。這(zhe)三個型(xing)號，波(bo)長均(jun)為(wei)248mm；分辨率≤110nm。

而(er)指導(dao)目錄中(zhong)更為(wei)先進的氟化氬(ya)光刻(ke)機，其(qi)照明波長為(wei)193mm，分辨率≤65nm；套刻(ke)≤8nm。

這一數據與ASML旗(qi)下TWINSCAN XT：1460K最為(wei)接近。該型號照明波長為(wei)193mm，分辨(bian)率≤65nm。此外，該系統可以在偏振照明下實現低至57nm的生產分辨(bian)率。

相比(bi)之(zhi)下(xia)，ASML浸潤式光刻機TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。據民生證券研報(bao)，該型(xing)號可實現2.5nm的套刻精度(du)（MMO）。

據(ju)東海證券援引ASML官網數據(ju)，2023年各類光刻(ke)機(ji)均(jun)價為EUV（17386萬歐元(yuan)(yuan)(yuan)）、ArFi（7196萬歐元(yuan)(yuan)(yuan)）、ArFdry（2742萬歐元(yuan)(yuan)(yuan)）、KrF（1192萬歐元(yuan)(yuan)(yuan)）、i-Iine（399萬歐元(yuan)(yuan)(yuan)）。

東海證券認為(wei)(wei)，目前光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)國產化率僅(jin)為(wei)(wei)2.5%，整機(ji)(ji)技術與海外差(cha)距較大(da)，短期5—10年內(nei)一方面(mian)重點(dian)發展90nm、28nm光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)的研(yan)發量產較為(wei)(wei)關鍵(jian)，一方面(mian)重點(dian)布(bu)局國內(nei)半導體零(ling)組(zu)件發展。

光刻機產業鏈亟須發展

東海(hai)(hai)證(zheng)券稱，根據中國國際招標(biao)網(wang)信息，半導(dao)體設備招標(biao)中，刻蝕、沉積(ji)等核(he)心設備的國產(chan)化(hua)(hua)率獲得了較(jiao)大的提升，核(he)心在于技術(shu)上我國相(xiang)關企業已經逐步追趕上海(hai)(hai)外(wai)(wai)企業；但(dan)光(guang)刻機作為(wei)核(he)心設備，國產(chan)化(hua)(hua)率不足3%，核(he)心原因在于零組(zu)件供應與(yu)整機技術(shu)與(yu)海(hai)(hai)外(wai)(wai)差距較(jiao)大。

9月18日，東方財富概念板塊中，光刻機（膠）板塊排名靠前，板塊整體漲幅達2.47%。其中，同飛股份（300990.SZ，股價28.43元，市值47.9億元）、波長光電（301421.SZ，股(gu)價35.88元(yuan)，市(shi)值41.52億元(yuan)）均收獲“20厘米”漲停；新萊應材（300260.SZ，股價18.13元(yuan)，市值73.94億元(yuan)）上漲12.40%。此外，張江高科（600895.SH，股價19.17元，市值296.88億(yi)元）、海立股份（600619.SH，股價5.93元(yuan)，市值(zhi)63.65億元(yuan)）、凱美特氣（002549.SZ，股價5.39元(yuan)，市值37.48億元(yuan)）等也漲停。

張(zhang)江高科受關(guan)注(zhu)，主要因為其曾(ceng)投資(zi)(zi)(zi)上(shang)海微(wei)電子(zi)公(gong)(gong)司。張(zhang)江高科于9月10日在(zai)投資(zi)(zi)(zi)者(zhe)交(jiao)流(liu)平臺表示，公(gong)(gong)司通(tong)過子(zi)公(gong)(gong)司上(shang)海張(zhang)江浩(hao)成創(chuang)業(ye)投資(zi)(zi)(zi)有限公(gong)(gong)司投資(zi)(zi)(zi)了上(shang)海微(wei)電子(zi)公(gong)(gong)司2.23億元，持有上(shang)海微(wei)電子(zi)10.779%的股(gu)權，后續未增持或減持。

東(dong)興證券稱(cheng)，國內企業中，上海微電(dian)子是目前中國第一(yi)家也是唯一(yi)家光刻機巨頭，出貨量已占國內市場(chang)份額超過80%，產(chan)品主(zhu)要涉(she)及ArF、KrF和i-line領域，其已具備(bei)90nm及以下的芯片制造能(neng)力。

光(guang)刻(ke)機零部件方面，同飛(fei)股(gu)份曾在2023年中報表示，其(qi)液體恒(heng)溫設(she)備在半導體制造(zao)設(she)備領域，主要(yao)應用于光(guang)刻(ke)機、刻(ke)蝕機、研磨拋光(guang)機等關鍵設(she)備的溫度控制。

不過，根(gen)據東(dong)興(xing)證券研報，光(guang)刻機核心組(zu)件包(bao)括(kuo)光(guang)源系(xi)(xi)統、雙工作臺(tai)、物鏡系(xi)(xi)統、對準系(xi)(xi)統、曝(pu)光(guang)系(xi)(xi)統、浸沒系(xi)(xi)統、光(guang)柵系(xi)(xi)統等(deng)。配套設施包(bao)括(kuo)光(guang)刻膠、掩膜版、涂(tu)膠顯影(ying)等(deng)。

光源系統方面，據華金證券，針對準激光光源，科益虹源主要研發248nm準分子激光器、干式193nm準分子激光器等；福晶科技（002222.SZ，股價22.05元(yuan)，市值103.69億元(yuan)）研發KBBF晶體。

另(ling)據東興證(zheng)券，波(bo)長光(guang)電(dian)為國內激(ji)光(guang)光(guang)學元件的(de)主要供(gong)應商，目前，公(gong)司已(yi)具(ju)備(bei)提供(gong)光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)配套的(de)大孔徑(jing)光(guang)學鏡頭的(de)能力，公(gong)司成功開發的(de)光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)平行光(guang)源系統可用(yong)于國產光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)領(ling)域(yu)配套。

波長光(guang)電也曾于(yu)2023年9月15日披露投資者(zhe)活動記錄表稱，公(gong)(gong)司(si)在半導體領(ling)(ling)域主要涉及兩個(ge)領(ling)(ling)域：一個(ge)是(shi)生產(chan)領(ling)(ling)域，即曝光(guang)機、光(guang)刻，公(gong)(gong)司(si)可(ke)提(ti)供大(da)口徑光(guang)學鏡頭用于(yu)檢測(ce)，做折反、投射，還可(ke)以提(ti)供平(ping)行光(guang)源(yuan)系統(tong)(tong)；另一個(ge)是(shi)檢測(ce)領(ling)(ling)域，公(gong)(gong)司(si)可(ke)提(ti)供檢測(ce)設備(bei)上(shang)的(de)光(guang)學元件、組件，也可(ke)為客戶定制開發、裝調子(zi)系統(tong)(tong)。

物鏡系統方面，東興證券稱，茂萊光學（688502.SH，股價(jia)77.99元，市(shi)值41.18億(yi)元）光(guang)刻機曝(pu)光(guang)物鏡超(chao)精密光(guang)學元件加(jia)工技(ji)術(shu)已實現產業化。

東海(hai)證(zheng)券研報顯示，中國2023年(nian)(nian)進口光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)(ji)數(shu)量(liang)高(gao)達(da)225臺，進口金(jin)額(e)高(gao)達(da)87.54億美元，進口金(jin)額(e)創(chuang)下(xia)歷史新高(gao)，預(yu)(yu)計3年(nian)(nian)至(zhi)5年(nian)(nian)內我國光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)(ji)主要依(yi)賴進口。一臺先進的(de)光(guang)刻(ke)(ke)機(ji)(ji)有(you)(you)多(duo)達(da)10萬個零部件(jian)，整體來看我國半(ban)導體零組件(jian)的(de)國產化率非常(chang)低，盡管在(zai)(zai)各個賽道均(jun)有(you)(you)相關的(de)國有(you)(you)企業(ye)在(zai)(zai)不斷發展，距離(li)海(hai)外企業(ye)依(yi)然有(you)(you)較(jiao)大的(de)差(cha)距，同時也預(yu)(yu)示著國內零組件(jian)企業(ye)公(gong)司有(you)(you)較(jiao)大的(de)發展機(ji)(ji)遇。

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